当社は、アルミ電解コンデンサを主体とした電子部品の製造販売を行っていますが、商社機能として半導体材料であるシリコンウエハ及びシリコンウエハ関連製品を販売しています。今後、省エネ化ではパワー半導体が鍵となり、IoTを活用した第4次産業革命ではMEMSセンサが有望視されています。当社は、これらの市場拡大に向けシリコンウエハの供給だけではなく付随するウエハ再生加工、成膜加工、熱電対取り付けなどのサービスも行なっています。
シリコンウエハ
(プライム、モニタ、ダミー)
当社では実験・試作用シリコンウエハから 半導体製品基板となるシリコンウエハを取り扱っています。
また、特別仕様のシリコンウエハへの対応も可能ですので、お問い合せください。
取り扱い一般仕様
ウエハサイズ | 4 inch | 5 inch | 6 inch | 8 inch | 300mm |
---|---|---|---|---|---|
単結晶成長法 | CZ | CZ | CZ | CZ | MCZ |
直径(mm) | 100 ± 0.2 | 125 ± 0.2 | 150 ± 0.2 | 200 ± 0.2 | 300 ± 0.2 |
厚み(µm) | 525 ± 25 | 625 ± 25 | 625 ± 25 | 725 ± 25 | 775 ± 25 |
導電型 | p型 | p型 | p型 | p型 | p型 |
結晶方位 | <100> | <100> | <100> | <100> | <100> |
抵抗率(Ω・cm) | 0.1 - 100 | 0.1 - 100 | 0.1 - 100 | 0.1 - 100 | 0.1 - 100 |
パーティクルサイズ | 0.3µm 10個以下 | 0.3µm 10個以下 | 0.3µm 10個以下 | 0.2µm 30個以下 | 0.12µm 100個以下 |
ウエハ再生加工
当社では使用済ダミーウエハの再生加工サービスを提供しています。これにより、ダミーウエハの廃棄を減らすことができます。
加工仕上一般仕様
加工対応ウエハサイズ | 6 inch | 8 inch | 300mm |
---|---|---|---|
加工仕上パーティクルサイズ | 0.3µm 10個以下 | 0.2µm 30個以下 | 0.12µm 100個以下 |
加工仕上金属汚染管理値 | Al, Cr, Na, K, Ca, | Al, Cr, Na, K, Ca, | Al, Cr, Na, K, Ca, |
Fe, Ni, Cu, Zn | Fe, Ni, Cu, Zn | Fe, Ni, Cu, Zn | |
<5E10atoms/cm2 | <5E10atoms/cm2 | <5E10atoms/cm2 |
熱電対取り付け加工サービス
半導体、液晶パネルなどでは、信頼性確保、品質管理のため基板表面の温度を正確に測定しています。当社では、ウエハなどの表面へ極細線の熱電対を取り付けるサービス、またウエハ処理条件下での温度分布を測定しそのデータを提示するサービスを行なっています。
従来サービスとの相違点
従来
- 繊維性絶縁材料端部から発塵
- 素線が折損し易い
- 接触面積が小さく外れ易い
当社サービス
- 絶縁材料端部からの発塵抑制
- 素線の長寿命化
- 接着強度の向上
- 極細線熱電対による高い温度追従性
(応答性)
- シリコンウエハ、SiCウエハ、ガラス、金属板への取り付けが可能です。
- お客様のニーズに応じたカスタム仕様対応が可能です。
- 真空環境下での温度測定が可能です。
ウエハ成膜、パターン加工
当社では、8インチ及び300㎜ウエハへの各種成膜加工、パターン加工に対応しています。
成膜、パターンニング加工の特長
成膜可能品種
種類 Category | 製法 | 膜種 |
---|---|---|
酸化膜系 Oxide | 熱酸化膜 Thermally oxidized film | 薄膜・超厚膜熱酸化膜 |
LP-CVD | LP-SiO2,HTO,LP-TEOS | |
PE-CVD | PE-SiO2,PE-TEOS,HDP etc. | |
スピンコート Spin coating | SOG | |
アニール炉 Annealing | RTO | |
窒化膜系 Nitride | LP-CVD | LP-SiN |
PE-CVD | PE-SiN | |
シリコン系 Silicon | LP-CVD | Poly-Si,Amorphous-Si |
有機膜系 Photo/Resists | スピンコート Spin coating | G線・I線・Krf・ArFレジスト,ポリイミド |
メタル系 Metal | スパッタ Spattering | Al,Ti,Ta,Cr,Cu,W,ITO etc. |
めっき Coating | Ti,Ni,Au,Cu etc. | |
CVD | W-Si |
- パターンマスクの製作が可能です。
- Holeパターン、ライン&スペース共に90nmサイズの加工が可能です。